Mis on hapnikuallikal ja õhuallika osoonigeneraatoril?

Osooni generaator
1. Fotokeemiline ultraviolettmeetod osooni kõrge osoonisisaldusega ultraviolettlambi tootmiseks - toodetakse suur hulk osooni, tekitades samal ajal 253,7 nm ultraviolettvalgust.
2. Plasma ja osooni vastastikmõju tühjenemise meetodil piki suunda -- õhusterilisaator
3. Väljalasketorukujulise osoonigeneraatori peamised osooni tootmise tehnoloogiad hõlmavad elektrolüüsi meetodit, tuumakiirguse meetodit, ultraviolettkiirguse, plasma ja koroona tühjenemise meetodit.
4. Elektrolüüsimeetod: vesi elektrolüüsitakse hapnikuks ja seejärel muudetakse selles sisalduv vaba hapnik osooniks. Rõhu all võib tekkida suurem osooni kontsentratsioon.
Tööstuses toodetakse seda vaikse tühjenemise teel kuiva õhu või hapnikuga ja vahelduvvoolu pingega 5 ~ 25kV. Lisaks võib hapnikku valmistada lahjendatud väävelhappe elektrolüüsi teel madalal temperatuuril või vedela hapniku kuumutamisel.
Õhust valmistatud osooni kontsentratsioon on tavaliselt 10-20 mg / l ja hapnikust valmistatud osooni kontsentratsioon on 20-40 mg / L. Vee desinfitseerimiseks võib kasutada 1% - 4% (massisuhe) osooni sisaldavat õhku.



Õhuallika osoonigeneraatori ja hapnikuallika osoonigeneraatori võrdlus:
1. Õhuallika osoonigeneraator kasutab lähtematerjalina õhku, et ioniseerida 21% õhus olevast hapnikust, seega nimetatakse seda õhuallikaks.
2. Hapnikuallika osoonigeneraator kasutab puhta hapniku ioniseerimiseks lähtematerjalina hapnikku, seega nimetatakse seda hapnikuallikaks. Hapnikuallikas jaguneb aga väliseks hapnikuallikaks ja sisseehitatud hapnikuallikaks. Toote disainis on mõningaid erinevusi. Hapnikuallika osoonigeneraator erineb õhuallika omast; Esiteks toodetakse puhast hapnikku hapnikugeneraatori abil; Seejärel juhitakse puhas hapnik läbi osoonitoru, et toota kõrge kontsentratsiooniga osoonigaasi; Seetõttu on hapnikuallikaga osoonigeneraatori kontsentratsioon mitu korda kõrgem kui õhuallikaga osoonigeneraatoril;